透射電子顯微鏡結構包括兩大部分：主體部分為照明系統、成像系統和觀察照相室；輔助部分為真空系統和電氣系統。透射電子顯微鏡在材料科學、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液...

掃描電鏡主要用二次電子觀察形貌，成像原理如圖所示。在掃描電鏡中，電子槍發射出來的電子束，經三個電磁透鏡聚焦后，成直徑為幾個納米的電子束。末級透鏡上部的掃描線圈能使電子束在試樣表面上做光柵狀掃描。試樣在電子束作用下，激發出各種信號，信號的強度取決于試樣表面的形貌、受激區域的成分和晶體取向。設在試樣附近的探測器把激發出的電子信號接受下來，經信號處理放大系統后，輸送到顯象管柵極以調制顯象管的亮度。由于顯...